CVD (化學(xué)氣相沉積)工藝工程師(J39976)
面議
北京
應(yīng)屆畢業(yè)生
學(xué)歷不限
北京
應(yīng)屆畢業(yè)生
學(xué)歷不限
- 全勤獎(jiǎng)
- 節(jié)日福利
- 不加班
- 周末雙休
職位描述
該職位還未進(jìn)行加V認(rèn)證,請(qǐng)仔細(xì)了解后再進(jìn)行投遞!
工作職責(zé):
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)CVD設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試(20%);
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件CVD工藝可行性分析,制程優(yōu)化,以及器件制程制作(30%);
(3)負(fù)責(zé)CVD工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升(20%);
(4)負(fù)責(zé)CVD新材料、新工藝評(píng)估、選型與導(dǎo)入(20%);
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng)(10%);
任職資格:
教育程度:碩士;
工作經(jīng)歷:
經(jīng)驗(yàn):2年以上MEMS領(lǐng)域CVD工藝開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn);
技術(shù)能力:
(1)具備CVD設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體CVD設(shè)備,有CVD工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟悉CVD在MEMS器件制程上的應(yīng)用和工藝需求spec;
所需專業(yè):自動(dòng)化、測(cè)控、機(jī)械、電子、半導(dǎo)體、微電子、材料、物理、化學(xué)等理工類相關(guān)專業(yè);
其他要求:良好的分析與解決問(wèn)題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識(shí)和責(zé)任心;
語(yǔ)言要求:良好的英語(yǔ)閱讀能力;
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)CVD設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試(20%);
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件CVD工藝可行性分析,制程優(yōu)化,以及器件制程制作(30%);
(3)負(fù)責(zé)CVD工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升(20%);
(4)負(fù)責(zé)CVD新材料、新工藝評(píng)估、選型與導(dǎo)入(20%);
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng)(10%);
任職資格:
教育程度:碩士;
工作經(jīng)歷:
經(jīng)驗(yàn):2年以上MEMS領(lǐng)域CVD工藝開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn);
技術(shù)能力:
(1)具備CVD設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體CVD設(shè)備,有CVD工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟悉CVD在MEMS器件制程上的應(yīng)用和工藝需求spec;
所需專業(yè):自動(dòng)化、測(cè)控、機(jī)械、電子、半導(dǎo)體、微電子、材料、物理、化學(xué)等理工類相關(guān)專業(yè);
其他要求:良好的分析與解決問(wèn)題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識(shí)和責(zé)任心;
語(yǔ)言要求:良好的英語(yǔ)閱讀能力;
工作地點(diǎn)
地址:北京大興區(qū)西環(huán)中路12號(hào)
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